設(shè)備別名：真空燒結(jié)爐，氣氛燒結(jié)爐，真空氣氛爐
真空氣氛爐廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材等領(lǐng)域的生產(chǎn)及實(shí)驗(yàn)。在粉末冶金中，真空燒結(jié)主要用于燒結(jié)活性金屬和難熔金屬鈹、釷、鈦、鋯、鉭、鈮等；燒結(jié)硬質(zhì)合金、磁性合金、工具鋼和不銹鋼；以及燒結(jié)那些易于與氫、氮、一氧化碳等氣體發(fā)生反應(yīng)的化合物。
一、真空箱式爐應(yīng)用領(lǐng)域
該真空箱式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和40段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空箱式爐廣泛應(yīng)用于金屬材料在低真空、還原性、保護(hù)性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點(diǎn)
爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計(jì)后由后膛進(jìn)入，并有多處洗爐膛進(jìn)氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕�、一氧化碳等氣體，能抽真空，真空度可達(dá)15pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護(hù)燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。
三、真空箱式爐規(guī)格型號
設(shè)備型號 TSZ-2-12 TSZ-6-12 TSZ-8-12 TSZ-10-12 TSZ-15-12
*高溫度 1200℃ 1200℃ 1200℃ 1200℃ 1200℃
控制精度 ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃
爐膛尺寸（mm） 200×150×150
（H×W×D） 300×200×200
（H×W×D） 300×250×250
（H×W×D） 400×300×300
（H×W×D） 500×400×400
（H×W×D）
發(fā)熱元件 進(jìn)口電阻絲 進(jìn)口電阻絲 進(jìn)口電阻絲 進(jìn)口電阻絲 進(jìn)口電阻絲
真空度 100pa 100pa 100pa 100pa 100pa
冷態(tài)壓升率 ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h
溫控方式 可控硅模塊自控
真空燒結(jié)爐，氣氛燒結(jié)爐，真空氣氛爐