三基色熒光粉（還原專用氨分解制氫設(shè)備帶純化）
一．氨分解制氫流程簡述：
利用液氨為原料，氨經(jīng)裂解后，每公斤液氨裂解可制得2.64Nm3混合氣體，其中含75%的氫氣和25%的氮氣。所得的氣體含雜質(zhì)較少（雜質(zhì)中含水汽約2克/立方米，殘余氨約1000ppm）, 再通過分子篩（美國UOP）吸附純化器，氣體的露點可降至-600C以下，殘余氨可降至3PPM以下.
氨裂解制氫爐可用于有色金屬，硅鋼、鉻鋼和不銹鋼等金屬材料和零件的光亮退火、硅鋼片的脫碳處理、銅基、鐵基粉末冶金燒結(jié)、電真空器件的金屬零件燒氫處理、半導(dǎo)體器件的保護燒結(jié)和封結(jié)、鈀合金膜擴散純化氫氣的原料氣等。
原料氨容易得到，價格低廉，原料消耗較少。氨裂解來制取保護氣體具有投資少，體積小，效率高等優(yōu)點
二．氨分解制氫工作原理：
氨（氣態(tài)）在一定溫度下，經(jīng)催化劑（西南院Z204）作用下裂解為75%的氫氣和25%的氮氣，并吸收21.9千卡熱量，其主要反應(yīng)為：
2NH3—3H2+N2-21.9千卡
整個過程因是吸熱膨脹反應(yīng)，提高溫度有利于氨裂解,同時它又是體積擴大的反應(yīng),降低壓力有利于氨的分解，氨分解制氫設(shè)備為使用*佳狀態(tài)。

三．氫氣純化工作原理：
當(dāng)氨分解制氫設(shè)備所產(chǎn)生的氫氣合格時再進入氫氣純化作進一步提純處理，裂解氫氣的純度很高，其中揮發(fā)性雜質(zhì)只有微量的殘氨和水份,可見只須除去微量殘氨和水份即可獲得高純度氣體.
氣體提純采用變溫吸附技術(shù)。變溫吸附(TSA)技術(shù)是以吸附劑(多孔固體物質(zhì))內(nèi)部表面對氣體分子在不同溫度下吸附性能不同為基礎(chǔ)的一種氣體分離純化工藝.常溫時吸附雜質(zhì)氣,加溫時脫附雜質(zhì)氣,
分子篩表面全是微孔，在常溫常壓下可吸附相當(dāng)于自重20%(靜態(tài)吸附時的水份和雜質(zhì)，而在350℃左右的溫度下，可以再生完全，每24小時切換一次，以得到純度和雜質(zhì)含量均合格的產(chǎn)品氣體。